ઉચ્ચ તાપમાન વેક્યુમ ઘટકો
હીટ ટ્રીટમેન્ટમાં મુખ્યત્વે ઓક્સિડેશન, પ્રસરણ અને એનેલીંગ પ્રક્રિયાઓનો સમાવેશ થાય છે.ઓક્સિડેશન એ એક ઉમેરણ પ્રક્રિયા છે જેમાં સિલિકોન વેફરને ઉચ્ચ-તાપમાનની ભઠ્ઠીમાં મૂકવામાં આવે છે અને વેફરની સપાટી પર સિલિકા બનાવવા માટે તેમની સાથે પ્રતિક્રિયા કરવા માટે ઓક્સિજન ઉમેરવામાં આવે છે.પ્રસરણ એ મોલેક્યુલર થર્મલ ચળવળ દ્વારા ઉચ્ચ સાંદ્રતાવાળા વિસ્તારમાંથી ઓછી સાંદ્રતાવાળા પ્રદેશમાં પદાર્થોને ખસેડવાનો છે, અને પ્રસાર પ્રક્રિયાનો ઉપયોગ સિલિકોન સબસ્ટ્રેટમાં ચોક્કસ ડોપિંગ પદાર્થોને ડોપ કરવા માટે થઈ શકે છે, જેનાથી સેમિકન્ડક્ટર્સની વાહકતા બદલાય છે.
